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    2024-05-19 16:00:261
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    2024-05-17 02:20:1559
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    2024-05-02 09:30:22321
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    2024-03-28 17:50:21963
  • 离子减薄速度

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    2024-03-28 06:00:21547
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    2024-03-27 05:06:18500
  • 离子束溅射的形成和预防

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    离子束溅射(ionbeamsputtering,IBS)是一种在单质或化合物表面沉积金属或半导体材料的技术。离子束溅射可以用于制备复杂的半导体器件,如晶体管、太阳能电池和发光二极管等。话说回来,离子束...

    2024-03-26 04:44:21546
  • 聚焦离子束切割深度是多少

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    fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材,以及应用开发和培训。离子束切割(IonBeamMelting,IBM)是一种用于金属离子束切割的技术,其切割深度取决于多种因素,如离子束功率、聚焦...

    2024-03-25 13:34:18455
  • 离子溅射刻蚀

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    2024-03-25 03:56:22472
  • 离子镀膜工艺流程

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    fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材,以及应用开发和培训。离子镀膜工艺是一种用于制备高质量膜材料的重要技术,广泛应用于电子、光学和航空航天等领域。本文将介绍离子镀膜工艺的基本原理、工艺...

    2024-03-24 22:28:22361